Статьи автора

ЧИСЛЕННОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ: БОЛЬШОЙ ТОК В ПЛАЗМЕННОМ РЕЛЯТИВИСТСКОМ ГЕНЕРАТОРЕ С ИНВЕРСНОЙ ГЕОМЕТРИЕЙ

Номер выпуска 5 от 19.12.2025

Методом численного моделирования (РIC-метод) было исследовано влияние величины тока электронного релятивистского пучка (РЭП) на режим работы плазменного релятивистского СВЧ-генератора (ПРГ) с инверсией геометрией (где трубчатый РЭП располагается вокруг плазмы, а не внутри, как в более ранних работах с обычной геометрией) и характеристики его излучения. Показано, что повышение значения токов РЭП приводит не к росту энергии выходного СВЧ-импульса РПГ, а к ее уменьшению для большого диапазона концентраций плазмы вплоть до 7 · 10 см. При превышении некоторого порогового значения тока РЭП функция распределения по энергии электронов РЭП меняет свою форму, происходит деградация поперечного профиля плотности плазмы, образование ионного фона и, как следствие, укорочение СВЧ-импульса и смена режима генерации.

32 0

МИКРОВОЛНОВЫЙ РАЗРЯД, ПОДДЕРЖИВАЕМЫЙ ИЗЛУЧЕНИЕМ ГИРОТРОНА НА ДИЭЛЕКТРИЧЕСКОЙ ПОДЛОЖКЕ С СЕРЕБРЯНЫМИ ЧАСТИЦАМИ В ВОЗДУХЕ, ДЛЯ СОЗДАНИЯ МЕТАЛЛИЗИРОВАННОГО ПОКРЫТИЯ НА ABS-ПЛАСТИКЕ

Номер выпуска 5 от 19.12.2025

Представлены результаты экспериментов по использованию плазмы микроволнового разряда, поддерживаемого микроволновым излучением импульсного (6 мс) гиротрона, для переноса вещества из металлического нанопорошка серебра на поверхность диэлектрической из ABS (акрилонитрил-бутадиен-стирол) пластиковой мишени. Эксперименты проводились при атмосферном и пониженном давлении (до 50 Торр) воздуха при плотности мощности микроволнового излучения от 1.25 до 12 кВт/см. Были изучены пространственные структуры плазмы микроволнового разрядов, распространяющихся вблизи кварцевой подложки со слоем нанопорошка серебра. Было определено, что разряд может иметь не менее 3 типов пространственной структуры: а) локализированный микроволновый разряд в точках инициирования разряда; б) микроволновый разряд, распространяющийся через кварцевую подложку; в) микроволновый разряд, распространяющийся вдоль кварцевой подложки. Нанесенный на поверхность пластика слой металла был охарактеризован с помощью электронной микроскопии.

34 0